這個問題背后,藏著一個比時間表更深刻的命題:真正讓荷蘭坐不住的,可能不是中國現在買多少臺光刻機,而是當中國不再那么需要它的時候,荷蘭手里那張牌還會值多少錢。
過去,荷蘭的算盤打得精。左手是ASML的高端光刻機,在全球半導體產業鏈上卡著一個誰也繞不過去的節點。美國要打對華科技戰,荷蘭就有了“被需要”的戰略價值;中國要發展芯片產業,荷蘭也有了“被求著”的談判籌碼。看起來兩邊都離不開它,左右逢源,兩頭通吃。
可現在,這種舒服日子正在變味。
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一、安世半導體:荷蘭“殺雞儆猴”,中國“反將一軍”
2025年9月,荷蘭政府突然援引一部自1952年以來從未動用的法律,以“國家安全”為由強制接管中資控股的安世半導體,凍結其全球運營,暫停中方委派的CEO職務,并強行要求任命外籍董事。這一記“突然襲擊”,本意是向中美兩頭遞投名狀:向美國表忠心“我跟你站在一起”,向中國示威“我手里有牌”。
結果偷雞不成蝕把米。
安世半導體做的不是最頂尖的芯片,而是汽車、消費電子領域大量使用的基礎芯片——MOSFET、邏輯芯片、雙極晶體管。聽起來不起眼,但全球汽車產業鏈最怕的就是這種“小零件”突然斷供。
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安世半導體中國區在控制權風波后迅速啟動“中國服務中國、中國服務全球”的全棧式供應鏈建設,截至2025年10月中旬,已向全球800余家客戶出貨超110億顆芯片。更關鍵的是,據供應鏈風險分析公司Prewave報告,在107家歐洲龍頭企業中,86%的企業從安世半導體在中國的生產基地采購芯片,歐洲所有航空航天與國防領域企業均使用安世半導體芯片。
也就是說,荷蘭以“經濟安全”為名干預中資企業,結果自己先引爆了全球汽車供應鏈的危機——美歐日車企全部遭殃。荷蘭分析人士范德普滕一針見血:“歐洲幾乎無處可逃。無論做什么,都會帶來損害,要么損害安全,要么損害經濟,或者兩者兼而有之。”
這一幕深刻揭示了一個道理:全球產業鏈不是西方單方面說切就能切的。
中國隨后從供應鏈環節精準回應,全球汽車產業立刻震動。這讓歐洲第一次清醒認識到:所謂“去風險”,從來不是單向操作。你能卡別人的脖子,別人也能讓你的產業鏈打噴嚏。
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二、ASML的尷尬:訂單在流失,市場在“內化”
如果說安世半導體是荷蘭一次失敗的“殺雞儆猴”,那么ASML的處境,才是荷蘭真正坐不住的深層原因。
這些年,美國不斷推動限制先進光刻設備對華出口。2026年4月,美國國會進一步提出《硬件技術控制多邊協調法案》,試圖在現行EUV禁售的基礎上,將浸沒式DUV等設備也納入全面限制,并禁止ASML為在華現有客戶提供售后服務。荷蘭政府以“反對域外管轄”為由提出異議,外貿大臣舍爾茨瑪直言,此類寬泛限制將嚴重沖擊荷蘭企業營收、削弱市場地位。可問題是,荷蘭嘴上說“不便評論”,實際行動卻一步步緊跟美國——從EUV禁售到DUV限制,管制層層加碼。
這種“嘴上反對,手上跟進”的矛盾姿態,暴露了荷蘭在歐洲戰略困境中的真實位置:安全上仰仗美國,經濟上依賴中國,卻在兩邊都拿不到好臉色。
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更扎心的是,ASML自身付出了真金白銀的代價。財報預測顯示,ASML中國市場營收占比將從2025年的33%降至2026年的約20%,萎縮超過三分之一。按海關總署數據統計,2026年第一季度,中國從荷蘭進口的光刻設備同比下降了24.3%。要知道,中國可是ASML在成熟制程領域最重要的市場之一——ASML首席執行官富凱甚至坦言,目前能出口到中國的DUV設備,技術已落后其最先進產品八代。過去“成熟制程躺賺”的好日子,正在被自己親手按下暫停鍵。
雪上加霜的是,ASML內部也不乏清醒的聲音。富凱本人警告稱,進一步收緊管制將加速中國自主研發替代設備的步伐。他打了一個耐人尋味的比喻:“如果我把你放到沙漠里,告訴你再也沒有食物來源了——你需要多久才開墾出自己的菜園?這是存亡的問題。”
諷刺的是,美國的限制措施不僅沒有阻止中國半導體產業的進步,反而倒逼出了一個更強大的中國半導體設備陣營。日本研究機構Global Net的榜單顯示,北方華創已從2022年的全球設備商第八位躍升至2025年的第五位,直接站到了ASML、應用材料等傳統巨頭的旁邊。中微公司的CCP介質刻蝕機良率超98%,價格比同類進口設備低15%。2026年開年,中國設備商“集體圍攻”的態勢已悄然成型。
“封鎖”正在反向激活一個完整的中國半導體設備生態。
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三、國產替代的真正轉折:28納米批量交付,“能用”變“好用”
比設備商排名更實質性的變化,發生在最核心的光刻機本身。
過去幾年,中國光刻機產業鏈在“買不到、逼自己造”的壓力下,完成了從實驗室到產線的關鍵跨越。上海微電子自主研發的SSA800系列28nm浸沒式DUV光刻機,已完成首批批量交付,正式進入量產工藝驗證階段,量產良率穩定在90%以上。整機國產化率超85%,三大核心子系統——光源系統、光學鏡頭、雙工件臺——全部實現國產自研自產。
在EUV光刻機這個半導體皇冠上的明珠領域,突破同樣在加速。哈爾濱工業大學2025年1月官宣成功研制出13.5納米波長的放電等離子體極紫外光源,正是EUV光刻機的核心部件。相比ASML采用的激光等離子體技術,哈工大的放電等離子體方案簡化了結構,體積小了三分之一,成本降低30%以上,實驗室數據實測功率穩定在120瓦,連續運行100小時波動小于0.8%。中科院上海光機所則研發出全固態深紫外光源系統,推動中國芯片工藝向3納米理論極限邁進。
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當然,追趕之路絕非坦途。ASML CEO富凱直言,中國已長達8年無法接觸EUV關鍵設備,“在EUV領域,這更可能是10年的問題,而不是3年”。這種差距,不僅是技術本身的難度,更是一個涉及全球數千家供應商、數十年積累的龐大系統工程。一臺EUV光刻機包含10萬多個零部件,背后是數千家供應商的協同;而中國的光刻機產業鏈,等于要從頭搭起。
但問題是,市場邏輯正在發生根本性轉變。
中國過去被卡過太多次,從芯片到設備,從材料到軟件,每個環節都被拿來做過文章。可每次被卡,中國內部資源就會往短板上集中一次。壓力越大,補課速度越快。這次,中國半導體行業的九名領軍人物在2026年全國兩會期間集體撰文,呼吁在“十五五”規劃期間舉全國之力打造中國版的光刻機巨頭ASML——這不是一篇請愿書,而是一場國家級戰略的公開宣言。
一旦國產替代跑通,哪怕技術一開始還有差距,采購邏輯也會徹底改變。中國企業吃過斷供的虧,就不會再把命門輕易交出去。以后就算限制放松,采購也會變成另一種思路:能國產就國產,必須進口才進口,還要先算政治風險。到那時候,ASML失去的就不只是中國市場的訂單,而是它在全球半導體版圖中的長期增長預期。
市場信心崩塌的代價,比訂單損失更加致命。
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四、回答那個問題:中國還要多久才能徹底趕上ASML?
坦率地說,這個問題很難用“X年”來簡單量化。
如果“徹底趕上”意味著在EUV領域達到ASML當前最先進型號的水平——ASML CEO富凱說的是10年,外部專家預測是5到8年,韓國一些學者甚至樂觀地預測“中國版ASML”可能在2030年前后出現。即便保守估計,這也是一個5到10年的長跑。
但如果把標準放低一些——在成熟制程領域實現全面自主、在EUV核心技術上實現“從0到1”的突破、在全球設備商梯隊中占據穩固位置——那么,很多關鍵的節點其實已經提前到來了。
哈工大EUV光源的成功,相當于點亮了黑暗中第一盞燈。上海微電子28nm光刻機的批量交付,意味著中國第一次有了可量產、可驗證、可迭代的“自己的光刻機”。后者雖然是成熟制程,但它補齊了國內汽車、家電、工業設備等核心芯片制造的設備短板,更重要的是,打通了高端光刻機研發、制造、量產、商用的全流程體系,為更先進制程的研發積累了核心技術、產業鏈配套與量產經驗。
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說到底,這是一個“能用—好用—領先”的漸進過程。 而ASML手里那張王牌——全球高端光刻機市場的技術壟斷地位——可能在“能用”這個階段就開始貶值了。因為一旦市場預期發生根本性轉變,一旦客戶相信“即便你不賣給我,我也能在幾年內自己造出來”,那么ASML剩下的就只是一個“時間窗口”問題。
這背后還有一個更深層的變化:中國正在重新立規矩——誰參與圍堵中國發展,誰就要承擔相應代價;誰想一邊賺著中國人的錢、一邊卡著中國人的脖子,誰就別指望中國市場永遠沒有脾氣。這不是賭氣,而是全球競爭中最現實的一條法則。
荷蘭被推到前臺,不是因為它有多強,而是因為它剛好站在半導體產業鏈最敏感的位置上。北京看的也不只是荷蘭一個國家,而是所有正在觀望的國家。這場博弈的最終結局,可能不是中國單方面“趕超”ASML的那一天——而是全球芯片產業的游戲規則,徹底不再是任何一個國家說了算的那一天。
到那個時候,中國不需要“徹底趕上”ASML,因為賽道本身已經被重新定義了。
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