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第十屆國際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會(IWAPS)即將開幕,誠邀您共赴學(xué)術(shù)盛宴!在這里,產(chǎn)業(yè)界與學(xué)術(shù)界的最前沿研發(fā)成果交匯,國際光刻技術(shù)動態(tài)深度交融!
國際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會(IWAPS),依托中國創(chuàng)新沃土,搭建全球交流平臺。在國內(nèi)外光刻專家的鼎力支持下,在全球企業(yè)、高校、協(xié)會等的共同支持下,IWAPS持續(xù)構(gòu)建覆蓋光刻設(shè)備、工藝、檢測和測量、掩模和材料、計算光刻、設(shè)計與工藝協(xié)同優(yōu)化及新型光刻技術(shù)等主題的國際先進(jìn)光刻交流平臺。
IWAPS持續(xù)歡迎全球領(lǐng)軍企業(yè)分享產(chǎn)業(yè)發(fā)展藍(lán)圖碰撞智慧,持續(xù)期待科研院所聚焦核心技術(shù)挑戰(zhàn)分享創(chuàng)新成果,誠摯邀請青年學(xué)者攜蓬勃朝氣參與技術(shù)思辨,亦為投資機(jī)構(gòu)洞察行業(yè)機(jī)遇開啟前瞻視野。
IWAPS是一個開放的學(xué)術(shù)交流平臺,來這里聆聽世界的學(xué)術(shù)聲音,發(fā)現(xiàn)技術(shù)發(fā)展的瓶頸,共筑光刻技術(shù)創(chuàng)新未來。讓我們相約金秋,共繪藍(lán)圖!
第十屆IWAPS計劃于
2026年9月10-11日深圳國際會展中心舉行
請于9月9日報到
歡迎各位學(xué)術(shù)和產(chǎn)業(yè)界的朋友蒞臨指導(dǎo),積極投稿演講!
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SPIE(國際光學(xué)工程學(xué)會)成立于1955年,是一個致力于光學(xué)和光電子學(xué)的國際專業(yè)組織。總部位于美國華盛頓州貝靈厄姆,SPIE的使命是推進(jìn)光學(xué)和光電子技術(shù)的科學(xué)、應(yīng)用、教育和商業(yè)。SPIE每年舉辦多個國際會議和展覽,為科學(xué)家、工程師和企業(yè)提供展示最新研究成果和技術(shù)的平臺。此外,SPIE Digital Library是全球最大的光學(xué)和光電子學(xué)文獻(xiàn)數(shù)據(jù)庫之一,提供了豐富的學(xué)術(shù)期刊、會議論文集和書籍,覆蓋光學(xué)、光電子學(xué)、激光技術(shù)、生物醫(yī)學(xué)光學(xué)等領(lǐng)域。這些資源和活動不僅促進(jìn)了全球光學(xué)和光電子學(xué)的發(fā)展,也推動了創(chuàng)新技術(shù)的應(yīng)用和專業(yè)人才的培養(yǎng)。
本屆IWAPS接收論文將被送檢SPIE Digital Library及EI。歡迎大家踴躍報名!
征稿范圍
IWAPS致力于發(fā)表前沿的微電子制造技術(shù)研究成果。會議主題涵蓋先進(jìn)半導(dǎo)體制造領(lǐng)域中從早期的理論和實驗,到工業(yè)化大規(guī)模量產(chǎn)的應(yīng)用等內(nèi)容。包括但不局限于:
- 光刻工藝;
- 計算光刻和DTCO;
- 材料;
- 掩模;
- 量測及檢測;
- 新型光刻技術(shù);
- 光刻設(shè)備裝備;
- 其他Patterning技術(shù)。
征稿要求
摘要要求
摘要必須清楚地描述論文的性質(zhì)、研究主題、研究內(nèi)容、組織結(jié)構(gòu)、要點(diǎn)以及研究意義。且用英文撰寫。
摘要必須包括以下內(nèi)容:論文標(biāo)題、關(guān)鍵詞、作者的姓名、所屬單位、郵件地址和通訊地址。摘要的字?jǐn)?shù)不應(yīng)超過500個單詞。對研究內(nèi)容的細(xì)節(jié)的描述將增加稿件被接收的可能。同時,我們強(qiáng)烈建議在提交的摘要中使用圖表。
摘要截至日期:2026年6月30日
摘要提交網(wǎng)址:
https://spie.org/submissions/submit/overview.aspx?EventId=4101554
(使用SPIE投稿系統(tǒng),若尚未注冊請首先注冊。請務(wù)必注意時間節(jié)點(diǎn))
摘要錄用通知日期:2026年7月21日
全文要求
論文摘要被接收后,作者需要按照全文模板的要求提交最終論文。論文全文模板參考SPIE會議標(biāo)準(zhǔn)模板。
本屆會議論文將被送檢SPIE Digital Library及EI,請務(wù)必在截止日期前投稿全文,否則不予送檢,請嚴(yán)格參考模板格式。
論文投稿網(wǎng)址:
https://spie.org/submissions/submit/overview.aspx?EventId=4101554
(使用SPIE投稿系統(tǒng),若尚未注冊請首先注冊。請務(wù)必注意時間節(jié)點(diǎn))
全文提交截止日期: 2026年8月31日
投稿指南
作者提交內(nèi)容須知
Step 1:訪問會議投稿的提交鏈接;
Step 2:輸入所有必要信息,上傳文件并提交;
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Step 3:返回您的賬戶詳情頁面,查看并批準(zhǔn)文件以完成提交;
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Step 4:之后,如果您再次返回提交系統(tǒng),請點(diǎn)擊屏幕右上角的個人圖標(biāo),登錄您的SPIE.org賬戶;
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Step 5:登錄后,點(diǎn)擊帶有您姓名首字母的紅色圓圈圖標(biāo),以查看下拉菜單。點(diǎn)擊“賬戶詳情”;
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Step 6:點(diǎn)擊您所在研討會的鏈接,進(jìn)入提交與評審系統(tǒng)。 藍(lán)色字體的研討會標(biāo)題是一個鏈接;
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Step 7:使用投稿鏈接來管理您當(dāng)前提交的內(nèi)容。6月30日前請?zhí)峤徽?月21日-8月31日提交全文。
往屆精彩回顧
IWAPS 2017 北京
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首屆國際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會勝利閉幕
IWAPS 2018 廈門
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第二屆國際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會勝利閉幕
IWAPS 2019 南京
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第三屆國際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會在南京開幕
IWAPS 2020 成都
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第四屆國際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會在成都開幕
IWAPS 2021 佛山
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第五屆國際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會在廣東佛山開幕
IWAPS 2022 北京 線上
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第六屆國際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會順利閉幕
IWAPS 2023 麗水
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第七屆國際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會(IWAPS)在浙江麗水勝利閉幕
IWAPS 2024 嘉興
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第八屆國際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會(IWAPS)在浙江嘉興勝利閉幕
IWAPS 2025 深圳
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第九屆國際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會(IWAPS)在廣東深圳勝利閉幕
往年論文集
IWAPS 2020:
https://ieeexplore.ieee.org/xpl/conhome/9286788/proceeding
IWAPS 2021:
https://ieeexplore.ieee.org/xpl/conhome/9670881/proceeding
IWAPS 2022:
https://ieeexplore.ieee.org/xpl/conhome/9971792/proceeding
IWAPS 2023:
https://ieeexplore.ieee.org/xpl/conhome/10365714/proceeding
IWAPS 2024:
https://www.spiedigitallibrary.org/conference-proceedings-of-SPIE/13423.toc
IWAPS 2025:
https://www.spiedigitallibrary.org/conference-proceedings-of-spie/13991.toc
IWAPS 2026 會議籌備工作已經(jīng)展開
更多信息,敬請關(guān)注會議官網(wǎng)
www.iwaps.org/cn
(請復(fù)制鏈接后在瀏覽器中打開)
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