第十屆國際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會（IWAPS）即將開幕，誠邀您共赴學(xué)術(shù)盛宴！在這里，產(chǎn)業(yè)界與學(xué)術(shù)界的最前沿研發(fā)成果交匯，國際光刻技術(shù)動態(tài)深度交融！

國際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會（IWAPS），依托中國創(chuàng)新沃土，搭建全球交流平臺。在國內(nèi)外光刻專家的鼎力支持下，在全球企業(yè)、高校、協(xié)會等的共同支持下，IWAPS持續(xù)構(gòu)建覆蓋光刻設(shè)備、工藝、檢測和測量、掩模和材料、計算光刻、設(shè)計與工藝協(xié)同優(yōu)化及新型光刻技術(shù)等主題的國際先進(jìn)光刻交流平臺。

IWAPS持續(xù)歡迎全球領(lǐng)軍企業(yè)分享產(chǎn)業(yè)發(fā)展藍(lán)圖碰撞智慧，持續(xù)期待科研院所聚焦核心技術(shù)挑戰(zhàn)分享創(chuàng)新成果，誠摯邀請青年學(xué)者攜蓬勃朝氣參與技術(shù)思辨，亦為投資機(jī)構(gòu)洞察行業(yè)機(jī)遇開啟前瞻視野。

IWAPS是一個開放的學(xué)術(shù)交流平臺，來這里聆聽世界的學(xué)術(shù)聲音，發(fā)現(xiàn)技術(shù)發(fā)展的瓶頸，共筑光刻技術(shù)創(chuàng)新未來。讓我們相約金秋，共繪藍(lán)圖！

第十屆IWAPS計劃于

2026年9月10-11日深圳國際會展中心舉行

請于9月9日報到

歡迎各位學(xué)術(shù)和產(chǎn)業(yè)界的朋友蒞臨指導(dǎo)，積極投稿演講！

SPIE（國際光學(xué)工程學(xué)會）成立于1955年，是一個致力于光學(xué)和光電子學(xué)的國際專業(yè)組織。總部位于美國華盛頓州貝靈厄姆，SPIE的使命是推進(jìn)光學(xué)和光電子技術(shù)的科學(xué)、應(yīng)用、教育和商業(yè)。SPIE每年舉辦多個國際會議和展覽，為科學(xué)家、工程師和企業(yè)提供展示最新研究成果和技術(shù)的平臺。此外，SPIE Digital Library是全球最大的光學(xué)和光電子學(xué)文獻(xiàn)數(shù)據(jù)庫之一，提供了豐富的學(xué)術(shù)期刊、會議論文集和書籍，覆蓋光學(xué)、光電子學(xué)、激光技術(shù)、生物醫(yī)學(xué)光學(xué)等領(lǐng)域。這些資源和活動不僅促進(jìn)了全球光學(xué)和光電子學(xué)的發(fā)展，也推動了創(chuàng)新技術(shù)的應(yīng)用和專業(yè)人才的培養(yǎng)。

本屆IWAPS接收論文將被送檢SPIE Digital Library及EI。歡迎大家踴躍報名！

征稿范圍

IWAPS致力于發(fā)表前沿的微電子制造技術(shù)研究成果。會議主題涵蓋先進(jìn)半導(dǎo)體制造領(lǐng)域中從早期的理論和實驗，到工業(yè)化大規(guī)模量產(chǎn)的應(yīng)用等內(nèi)容。包括但不局限于:

1. 光刻工藝；
2. 計算光刻和DTCO；
3. 材料；
4. 掩模；
5. 量測及檢測；
6. 新型光刻技術(shù)；
7. 光刻設(shè)備裝備；
8. 其他Patterning技術(shù)。

征稿要求

摘要要求

摘要必須清楚地描述論文的性質(zhì)、研究主題、研究內(nèi)容、組織結(jié)構(gòu)、要點(diǎn)以及研究意義。且用英文撰寫。

摘要必須包括以下內(nèi)容：論文標(biāo)題、關(guān)鍵詞、作者的姓名、所屬單位、郵件地址和通訊地址。摘要的字?jǐn)?shù)不應(yīng)超過500個單詞。對研究內(nèi)容的細(xì)節(jié)的描述將增加稿件被接收的可能。同時，我們強(qiáng)烈建議在提交的摘要中使用圖表。

摘要截至日期：2026年6月30日

摘要提交網(wǎng)址：
https://spie.org/submissions/submit/overview.aspx?EventId=4101554

（使用SPIE投稿系統(tǒng)，若尚未注冊請首先注冊。請務(wù)必注意時間節(jié)點(diǎn)）

摘要錄用通知日期：2026年7月21日

全文要求

論文摘要被接收后，作者需要按照全文模板的要求提交最終論文。論文全文模板參考SPIE會議標(biāo)準(zhǔn)模板。

本屆會議論文將被送檢SPIE Digital Library及EI，請務(wù)必在截止日期前投稿全文，否則不予送檢，請嚴(yán)格參考模板格式。

論文投稿網(wǎng)址：
https://spie.org/submissions/submit/overview.aspx?EventId=4101554

（使用SPIE投稿系統(tǒng)，若尚未注冊請首先注冊。請務(wù)必注意時間節(jié)點(diǎn)）

全文提交截止日期： 2026年8月31日

投稿指南

作者提交內(nèi)容須知

Step 1：訪問會議投稿的提交鏈接；

Step 2：輸入所有必要信息，上傳文件并提交；

Step 3：返回您的賬戶詳情頁面，查看并批準(zhǔn)文件以完成提交；

Step 4：之后，如果您再次返回提交系統(tǒng)，請點(diǎn)擊屏幕右上角的個人圖標(biāo)，登錄您的SPIE.org賬戶；

Step 5：登錄后，點(diǎn)擊帶有您姓名首字母的紅色圓圈圖標(biāo)，以查看下拉菜單。點(diǎn)擊“賬戶詳情”；

Step 6：點(diǎn)擊您所在研討會的鏈接，進(jìn)入提交與評審系統(tǒng)。 藍(lán)色字體的研討會標(biāo)題是一個鏈接；

Step 7：使用投稿鏈接來管理您當(dāng)前提交的內(nèi)容。6月30日前請?zhí)峤徽?月21日-8月31日提交全文。

往屆精彩回顧

IWAPS 2017 北京

首屆國際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會勝利閉幕

IWAPS 2018 廈門

第二屆國際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會勝利閉幕

IWAPS 2019 南京

第三屆國際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會在南京開幕

IWAPS 2020 成都

第四屆國際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會在成都開幕

IWAPS 2021 佛山

第五屆國際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會在廣東佛山開幕

IWAPS 2022 北京 線上

第六屆國際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會順利閉幕

IWAPS 2023 麗水

第七屆國際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會（IWAPS）在浙江麗水勝利閉幕

IWAPS 2024 嘉興

第八屆國際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會（IWAPS）在浙江嘉興勝利閉幕

IWAPS 2025 深圳

第九屆國際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會（IWAPS）在廣東深圳勝利閉幕

往年論文集

IWAPS 2020：

https://ieeexplore.ieee.org/xpl/conhome/9286788/proceeding

IWAPS 2021：

https://ieeexplore.ieee.org/xpl/conhome/9670881/proceeding

IWAPS 2022:

https://ieeexplore.ieee.org/xpl/conhome/9971792/proceeding

IWAPS 2023:

https://ieeexplore.ieee.org/xpl/conhome/10365714/proceeding

IWAPS 2024:

https://www.spiedigitallibrary.org/conference-proceedings-of-SPIE/13423.toc

IWAPS 2025:

https://www.spiedigitallibrary.org/conference-proceedings-of-spie/13991.toc

IWAPS 2026 會議籌備工作已經(jīng)展開

更多信息，敬請關(guān)注會議官網(wǎng)

www.iwaps.org/cn

（請復(fù)制鏈接后在瀏覽器中打開）

以及“光刻人的世界

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