北京
來源：市場資訊
（來源：Ai&芯片那點事兒）
荷蘭光刻機巨頭阿斯麥（ASML）首席執行官富凱說，收緊光刻機對CN市場的出口管制，將加速自主研發替代設備的步伐。
被視為歐洲科技界領軍人物之一的富凱（Christophe Fouquet）星期三（5月20日）參加在比利時安特衛普舉行的科技活動接受路透社采訪時呼吁，針對晶片制造設備輸華的出口，制定更為一致的規則。
美國國會4月提出《硬件技術控制多邊協同法案》（MATCH法案），要求荷蘭和日本等盟友遵守美國出口管制措施，防止CN獲取先進晶片制造設備。這項法案在現行極紫外光刻機（EUV）對華全面禁售的基礎上，將浸沒式深紫外光刻機（DUV）等設備也納入全面限制。荷蘭政府對上述法案予以反對。
富凱說，阿斯麥目前出售的DUV設備，本身就是基于2015年的技術，為八代之前的晶片技術；如果進一步收緊限制，只會加速CN自主研發替代設備的步伐。
富凱比喻說：“如果我將你放到沙漠里，告訴你今后再也沒有食物來源了——你需要多久才開墾出自己的菜園？這是存亡的問題?！?/p>
阿斯麥今年1月預計，公司今年在CN市場的銷售額占比為20%，較去年的33%明顯減少。按海關總署的數據統計，CN今年首季從荷蘭進口的光刻設備同比下降24.3%。
年初，半導體行業的九名領軍人物集體撰文，呼吁在“十五五”（2026年至2030年）規劃期間，舉全國之力打造CN版的光刻機巨頭阿斯麥，突破美國的技術封鎖。
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