文/王新喜

全球芯片圈又地震了。近期，美國兩黨議員聯合拋出的一紙MATCH法案，不光要禁售DUV光刻機給中國，連已經賣出去的那些設備的安裝、維修、軟件更新、技術支持，一概禁止。成熟制程用的關鍵設備、低溫蝕刻機這些也全算進去，要求荷蘭等盟友在150天內實施同等禁令，禁令一出，荷蘭這邊立刻做出反應，4月7日，荷蘭ASML公司股價開盤直接跳水近5%，上千億市值瞬間蒸發。

這家壟斷全球高端光刻機的巨無霸，今年的業績恐怕要出現一個大窟窿。

我們知道，全球光刻機的廠商主要是荷蘭ASML，日本的尼康、佳能，以及中國大陸的上海微電子。ASML一家獨大，份額高達85%，佳能大約是10%，尼康是5%，上海微電子的份額為0.2%。

能造極紫外線EUV光刻機的，只此一家，別無分號。過去幾年，美國逼著荷蘭政府卡住了最先進的EUV對華出口，后來2023年10月17日又升級規則，擴大到人工智能芯片和更多工具，把ASML的NXT:1970Ci這種相對先進的DUV型號直接禁了，但相對老一點的DUV設備，中國還能買。

現在美國把所有光刻機的采購路子全部要堵死。所有的DUV浸沒式光刻機，不光不讓賣新機器，連售后維保都要斷。美國認為，中國7nm芯片現在主要是用以前買的設備做出來的，光刻機是精密絕倫的設備，沒有原廠工程師定期維護、更換零件，中國DUV壞了不能修，那么壞一臺少一臺，中國現有的DUV只能越用越少，芯片產能也只能收縮。

可以說美國算盤打得好，但ASML自己心里苦，ASML公司拒絕置評，因為中國過去是ASML光刻機最大的買家，這還是在EUV被完全限制的情況下，ASML官方預測，2026年中國市場營收占比將從2025年的33%降至20%左右。一旦新法案落地，這20%將直接歸零。

比利時分析師羅格說法案可能導致ASML銷售額出現個位數的下跌。但摩根大通的分析師Sandeep Deshpande顯然更悲觀，認為若法案通過，ASML的每股收益 (EPS) 可能減少高達10%。他同時指出，即使其他地區銷售額大幅增長，也無法完全抵消中國市場的損失。

德什潘德甚至還認為會出現連鎖反應。現在全球芯片產能本來就繃得緊，如果限制落地，中國芯片廠產能被壓，全球芯片荒立刻就得重演。

有人會說，美國不僅卡DUV光刻機，還卡維修，中國怕不怕？

事實上，中企在2023年底就囤夠了，根據2023年的數據，當時中國有1400臺光刻機，2024年上半年進口額還幾百億歐元，第三季度從ASML拿了34億歐元的貨，確保產能短期沒問題。

2025年，中國買走的光刻機金額高達80.1億歐元，合計占到所有光刻機銷售的33%。

荷蘭媒體曾爆料，中國已經囤了足夠的DUV光刻機，用5~10年都沒有問題，也就意味著，即便ASML一臺不賣，中國的存量也夠用了。

其次，從當前的現狀來看，維修卡不了中國的脖子，因為中國對美國這一后手早有準備，很多年前就已經在通過本土維修破局，生產光學元件這些易損件，少靠ASML。許多晶圓廠開始研究延長設備壽命的方案，工程團隊嘗試升級子系統組件，例如控制模塊和傳感裝置。一些零部件通過拆機渠道獲得，也有第三方維修團隊參與，這個新生態正在形成。

拿精密光學鏡頭與激光功率補償模塊來說，這些曾被認為只有西方能生產的核心部件，在2026年3月的中國半導體設備展會上，已經有多家國產廠商拿出了能夠適配存量機器的成熟產品。

此外像光刻膠的裝載玻璃瓶，這種瓶子必須保證內部液體在儲存中絕對不受污染。以往這種特殊的包裝物幾乎全依賴進口。但在2026年初，國產高性能包裝容器已攻克了難關，實現了大規模量產，這意味著中國的半導體產業鏈已進入全方位“補齊”的階段。

在接下來這5~10年內，是中國自主全力攻克浸潤式DUV光刻機的關鍵時間窗口。

目前我國在28nm及以下的核心設備方面已取得決定性進展，國產28nm DUV光刻機核心參數對標ASML主流產品，而且國產設備的替代速度也在加快，阿斯麥的報告顯示，中國對進口設備還有依賴，但像SSA600這種國產設備已經能用在90納米的生產線上。

2023年日本限制23種半導體設備出口后，國內刻蝕、薄膜沉積等核心設備的國產替代率已從2025年的25% 提升至35%。

在2025年12月，上海芯上微裝科技成功交付了AST6200型350納米步進光刻機，這臺光刻機的套刻精度，正面能做到80納米，背面是500納米，而且能兼容碳化硅、氮化鎵等多種新型半導體材料，這對于5G基站、新能源汽車的電控系統、還有Micro LED顯示屏等芯片制造來說完全夠用，更關鍵的是這臺設備國產化率高達83%，幾乎所有核心零部件都是中國制造。

它的技術參數正好滿足了現在第三代半導體市場的需求，專門解決了行業里的實際問題，這也說明中國光刻機企業正在用更靈活、更實用的方式參與全球競爭。

按照我們的進度，5~10年后，中國國產浸潤式DUV光刻機大概率已經實現量產了。

此外，中國在光刻機技術還在推進納米壓印與電子光束多條路線并行研發，國內企業璞璘科技自主設計研發的首臺PL-SR系列噴墨步進式納米壓印設備已經交付給國內特色工藝客戶產線使用，能夠用于儲存芯片、硅基微顯、硅光及先進封裝等領域。

其次浙江大學研發團隊此前推出我國首臺國產商業電子束光刻機，命名為“羲之”， 精度0.6nm，線寬8nm，用電子束在芯片上刻寫電路。

這個也不是PPT，而是有了成品機，并已經進入應用測試。

這些看似分散的技術突破，其實為中國半導體產業突圍構建了“組合拳”，形成了中國半導體產業突圍的強大力量。

日媒曾經說過，中國可能會成為荷蘭與日本之后，第三個獨立制造光刻機的國家。

美國現在把管制范圍擴大到DUV，將推動這一進程加速。美國要徹底封堵中國芯片產業的發展，但同時也是隔山打牛，把ASML架在火上烤了。對ASML而言，光刻機是它的立身之本，但同時它作為美國盟友體系里不可替代的技術節點，要對中國這個全球最大的光刻機市場卡脖子，可以說進退兩難。從EUV到DUV，美國的封鎖線在不斷下移，每一擊都打在中國身上，痛在ASML的心里，從卡脖子慢慢變成掐氣管了。

DUV光刻機只是中國光刻機產業鏈發展的第一步，如今國內已有多家科研機構和企業針對次時代技術開始布局。例如，某光學研究所正在自主研發EUV光源模擬器，11億元產線已試運行，雖然與ASML的商用標準尚有差距，但已足夠支撐原型機通過關鍵測試。另一家設備廠商則通過從國際市場引進頂尖研發人員，搭建了完整的投影物鏡研究團隊。

盡管這些舉措與ASML的優勢還相去甚遠，但正如某業內專家所言，“中國的半導體進步是一場沒有硝煙的持久戰，是一種漸進式的滲透，時間會給出答案。”

這場沒有硝煙的戰爭里，ASML的股價大跌只是個開始，真正的好戲，還在后頭。