文/王新喜

全球芯片圈又地震了。近期，美國兩黨議員聯(lián)合拋出的一紙MATCH法案，不光要禁售DUV光刻機給中國，連已經(jīng)賣出去的那些設(shè)備的安裝、維修、軟件更新、技術(shù)支持，一概禁止。成熟制程用的關(guān)鍵設(shè)備、低溫蝕刻機這些也全算進去，要求荷蘭等盟友在150天內(nèi)實施同等禁令，禁令一出，荷蘭這邊立刻做出反應(yīng)，4月7日，荷蘭ASML公司股價開盤直接跳水近5%，上千億市值瞬間蒸發(fā)。

這家壟斷全球高端光刻機的巨無霸，今年的業(yè)績恐怕要出現(xiàn)一個大窟窿。

我們知道，全球光刻機的廠商主要是荷蘭ASML，日本的尼康、佳能，以及中國大陸的上海微電子。ASML一家獨大，份額高達85%，佳能大約是10%，尼康是5%，上海微電子的份額為0.2%。

能造極紫外線EUV光刻機的，只此一家，別無分號。過去幾年，美國逼著荷蘭政府卡住了最先進的EUV對華出口，后來2023年10月17日又升級規(guī)則，擴大到人工智能芯片和更多工具，把ASML的NXT:1970Ci這種相對先進的DUV型號直接禁了，但相對老一點的DUV設(shè)備，中國還能買。

現(xiàn)在美國把所有光刻機的采購路子全部要堵死。所有的DUV浸沒式光刻機，不光不讓賣新機器，連售后維保都要斷。美國認為，中國7nm芯片現(xiàn)在主要是用以前買的設(shè)備做出來的，光刻機是精密絕倫的設(shè)備，沒有原廠工程師定期維護、更換零件，中國DUV壞了不能修，那么壞一臺少一臺，中國現(xiàn)有的DUV只能越用越少，芯片產(chǎn)能也只能收縮。

可以說美國算盤打得好，但ASML自己心里苦，ASML公司拒絕置評，因為中國過去是ASML光刻機最大的買家，這還是在EUV被完全限制的情況下，ASML官方預(yù)測，2026年中國市場營收占比將從2025年的33%降至20%左右。一旦新法案落地，這20%將直接歸零。

比利時分析師羅格說法案可能導(dǎo)致ASML銷售額出現(xiàn)個位數(shù)的下跌。但摩根大通的分析師Sandeep Deshpande顯然更悲觀，認為若法案通過，ASML的每股收益 (EPS) 可能減少高達10%。他同時指出，即使其他地區(qū)銷售額大幅增長，也無法完全抵消中國市場的損失。

德什潘德甚至還認為會出現(xiàn)連鎖反應(yīng)。現(xiàn)在全球芯片產(chǎn)能本來就繃得緊，如果限制落地，中國芯片廠產(chǎn)能被壓，全球芯片荒立刻就得重演。

有人會說，美國不僅卡DUV光刻機，還卡維修，中國怕不怕？

事實上，中企在2023年底就囤夠了，根據(jù)2023年的數(shù)據(jù)，當時中國有1400臺光刻機，2024年上半年進口額還幾百億歐元，第三季度從ASML拿了34億歐元的貨，確保產(chǎn)能短期沒問題。

2025年，中國買走的光刻機金額高達80.1億歐元，合計占到所有光刻機銷售的33%。

荷蘭媒體曾爆料，中國已經(jīng)囤了足夠的DUV光刻機，用5~10年都沒有問題，也就意味著，即便ASML一臺不賣，中國的存量也夠用了。

其次，從當前的現(xiàn)狀來看，維修卡不了中國的脖子，因為中國對美國這一后手早有準備，很多年前就已經(jīng)在通過本土維修破局，生產(chǎn)光學(xué)元件這些易損件，少靠ASML。許多晶圓廠開始研究延長設(shè)備壽命的方案，工程團隊嘗試升級子系統(tǒng)組件，例如控制模塊和傳感裝置。一些零部件通過拆機渠道獲得，也有第三方維修團隊參與，這個新生態(tài)正在形成。

拿精密光學(xué)鏡頭與激光功率補償模塊來說，這些曾被認為只有西方能生產(chǎn)的核心部件，在2026年3月的中國半導(dǎo)體設(shè)備展會上，已經(jīng)有多家國產(chǎn)廠商拿出了能夠適配存量機器的成熟產(chǎn)品。

此外像光刻膠的裝載玻璃瓶，這種瓶子必須保證內(nèi)部液體在儲存中絕對不受污染。以往這種特殊的包裝物幾乎全依賴進口。但在2026年初，國產(chǎn)高性能包裝容器已攻克了難關(guān)，實現(xiàn)了大規(guī)模量產(chǎn)，這意味著中國的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈已進入全方位“補齊”的階段。

在接下來這5~10年內(nèi)，是中國自主全力攻克浸潤式DUV光刻機的關(guān)鍵時間窗口。

目前我國在28nm及以下的核心設(shè)備方面已取得決定性進展，國產(chǎn)28nm DUV光刻機核心參數(shù)對標ASML主流產(chǎn)品，而且國產(chǎn)設(shè)備的替代速度也在加快，阿斯麥的報告顯示，中國對進口設(shè)備還有依賴，但像SSA600這種國產(chǎn)設(shè)備已經(jīng)能用在90納米的生產(chǎn)線上。

2023年日本限制23種半導(dǎo)體設(shè)備出口后，國內(nèi)刻蝕、薄膜沉積等核心設(shè)備的國產(chǎn)替代率已從2025年的25% 提升至35%。

在2025年12月，上海芯上微裝科技成功交付了AST6200型350納米步進光刻機，這臺光刻機的套刻精度，正面能做到80納米，背面是500納米，而且能兼容碳化硅、氮化鎵等多種新型半導(dǎo)體材料，這對于5G基站、新能源汽車的電控系統(tǒng)、還有Micro LED顯示屏等芯片制造來說完全夠用，更關(guān)鍵的是這臺設(shè)備國產(chǎn)化率高達83%，幾乎所有核心零部件都是中國制造。

它的技術(shù)參數(shù)正好滿足了現(xiàn)在第三代半導(dǎo)體市場的需求，專門解決了行業(yè)里的實際問題，這也說明中國光刻機企業(yè)正在用更靈活、更實用的方式參與全球競爭。

按照我們的進度，5~10年后，中國國產(chǎn)浸潤式DUV光刻機大概率已經(jīng)實現(xiàn)量產(chǎn)了。

此外，中國在光刻機技術(shù)還在推進納米壓印與電子光束多條路線并行研發(fā)，國內(nèi)企業(yè)璞璘科技自主設(shè)計研發(fā)的首臺PL-SR系列噴墨步進式納米壓印設(shè)備已經(jīng)交付給國內(nèi)特色工藝客戶產(chǎn)線使用，能夠用于儲存芯片、硅基微顯、硅光及先進封裝等領(lǐng)域。

其次浙江大學(xué)研發(fā)團隊此前推出我國首臺國產(chǎn)商業(yè)電子束光刻機，命名為“羲之”， 精度0.6nm，線寬8nm，用電子束在芯片上刻寫電路。

這個也不是PPT，而是有了成品機，并已經(jīng)進入應(yīng)用測試。

這些看似分散的技術(shù)突破，其實為中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)突圍構(gòu)建了“組合拳”，形成了中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)突圍的強大力量。

日媒曾經(jīng)說過，中國可能會成為荷蘭與日本之后，第三個獨立制造光刻機的國家。

美國現(xiàn)在把管制范圍擴大到DUV，將推動這一進程加速。美國要徹底封堵中國芯片產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，但同時也是隔山打牛，把ASML架在火上烤了。對ASML而言，光刻機是它的立身之本，但同時它作為美國盟友體系里不可替代的技術(shù)節(jié)點，要對中國這個全球最大的光刻機市場卡脖子，可以說進退兩難。從EUV到DUV，美國的封鎖線在不斷下移，每一擊都打在中國身上，痛在ASML的心里，從卡脖子慢慢變成掐氣管了。

DUV光刻機只是中國光刻機產(chǎn)業(yè)鏈發(fā)展的第一步，如今國內(nèi)已有多家科研機構(gòu)和企業(yè)針對次時代技術(shù)開始布局。例如，某光學(xué)研究所正在自主研發(fā)EUV光源模擬器，11億元產(chǎn)線已試運行，雖然與ASML的商用標準尚有差距，但已足夠支撐原型機通過關(guān)鍵測試。另一家設(shè)備廠商則通過從國際市場引進頂尖研發(fā)人員，搭建了完整的投影物鏡研究團隊。

盡管這些舉措與ASML的優(yōu)勢還相去甚遠，但正如某業(yè)內(nèi)專家所言，“中國的半導(dǎo)體進步是一場沒有硝煙的持久戰(zhàn)，是一種漸進式的滲透，時間會給出答案。”

這場沒有硝煙的戰(zhàn)爭里，ASML的股價大跌只是個開始，真正的好戲，還在后頭。