“溢流”現象指活性物種(如氫或氧)在金屬與載體之間的擴散,對催化性能至關重要。長期以來,研究者普遍認為溢流主要發生在催化劑表面,即物種沿外表面從金屬遷移到載體或反之。然而,催化劑的體相晶格是否也能參與這一過程,始終缺乏直接的原子尺度證據。這一問題的解答不僅關乎對催化機理的基礎認知,更可能為設計高效氧化催化劑開辟全新路徑。
2026年4月15日,中國科學院大連化學物理研究所劉偉、黃延強、張濤院士團隊聯合南方科技大學王陽剛教授等,在《自然》期刊上發表題為《Imaging interface-controlled bulk oxygen spillover》的研究論文。研究團隊利用原位環境透射電子顯微鏡,在原子分辨率下實時追蹤了Ru/TiO?催化劑中氧溢流的完整路徑,首次發現氧物種并非沿傳統認為的表面擴散,而是通過金屬-載體界面從TiO?的亞表層(3-5個原子層深度)直接輸運至Ru顆粒,顛覆了教科書式的表面溢流模型。
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研究的關鍵證據來自對金紅石TiO?(r-TiO?)負載Ru納米顆粒的實時氧化觀測。在450°C、10 Pa O?氣氛下,RuO?相并非從顆粒表面向內生長(即經典的“收縮核”模式),而是從Ru/r-TiO?界面內部開始,沿r-TiO?(110)晶面以“自下而上”的逐層外延方式生長。通過皮米級精度的原子位移分析,團隊發現TiO?載體在氧化過程中發生了可逆的晶格壓縮:最表層四層(110)晶面間距從0.324 nm收縮至0.317 nm,氧化完成后恢復原值。這種各向異性的晶格畸變正是氧離子集體遷移留下的“結構腳印”。進一步的密度泛函理論計算表明,氧空位在r-TiO?亞表層形成和遷移的能壘僅0.7-1.5 eV,在反應溫度下易于跨越,從而構建了“表面氧空位淬滅→空位介導的體相氧輸運→Ru氧化”的三步機制。
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尤為重要的是,該體相氧溢流表現出極強的界面敏感性:在外延匹配的Ru/r-TiO?體系中高效發生,而在晶格失配的Ru/銳鈦礦TiO?(a-TiO?)體系中則完全被抑制。通過高溫破壞界面外延后,氧溢流也被阻斷,證實了界面結構的關鍵調控作用。研究還展示了這一機制在真實催化反應中的優勢:在CO氧化中,RuO?/r-TiO?可利用體相氧參與Mars-van Krevelen機理,并通過調節CO/O?比例實現可逆的氧化-還原循環;在N?O分解中同樣觀察到類似的界面溢流行為。該機制在Ru/SnO?和Ir/r-TiO?等體系中亦得到驗證,具有普適性。
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