ASML新型光刻機28億一臺，臺積電：暫不引進，舊的還能用

▲圖源：路透社

芯東西（公眾號：aichip001）
編譯 劉煜
編輯 陳駿達

芯東西4月23日消息，今天，據彭博社報道，在2026北美技術論壇上，臺積電聯席副首席運營官Kevin Zhang（張曉強）稱，在2029年以前，臺積電不會采購ASML新一代高數值孔徑極紫外光刻機（High-NA EUV）。消息一出，當天ASML美股短時下跌，盤中最大跌幅超4%，截止最后收盤下跌1.05%。

▲ASML股價（圖源：騰訊自選股）

該款光刻機是支撐1.4nm及以下先進制程的核心裝備，分辨率與制程能力顯著優于上一代，但此類設備單價逾3.5億歐元（約合人民幣27.98億元），接近主流低數值孔徑紫外光刻機（Low?NA EUV）設備的1.8倍。

現階段，AI與先進制程需求雖旺，但High?NA對應的1.4nm及以下節點尚未大規模爆發，大規模采購難快速回本。

據美國媒體《EE Times》報道，張曉強稱：“我必須說，我對我們的研發團隊感到驚嘆。他們持續找到不依賴High-NA EUV就能實現工藝微縮的方法?；蛟S未來某一天我們不得不使用它，但就目前而言，我們仍能從現有EUV中挖掘收益，不必轉向High-NA EUV——畢竟它極其昂貴?！?/p>

臺積電計劃投產的A13和A12均無需使用High-NA EUV光刻設備，該公司將繼續使用ASML的Low?NA EUV設備以及工藝優化，實現其規劃的2029年的穩定量產路線。

張曉強說道：“去年我們發布了基于最先進的第二代納米片技術的A14制程，計劃于2028年投產。今年，我們將發布A14的衍生版，包括A13和A12，均計劃于2029年投產。”

今年1月下旬，在2025年第四季度及全年財報發布會上，ASML稱，預計2026年的增長主要由EUV設備銷量的大幅提升，以及存量設備相關業務收入的增長所驅動。

同時，該公司預計其2030年的潛在市場規模（營收機會）將達到440億歐元（約合人民幣3517.58億元）至600億歐元（約合人民幣4796.88億元），毛利率將在56%至60%之間。

ASML稱，其正與客戶共同推進High-NA EUV平臺的成熟化，確保按計劃在2026年底前滿足大規模量產（HVM）條件，并于2027至2028年在客戶產線正式投入應用。

而據彭博社供應鏈數據顯示，臺積電是ASML的最大客戶。臺積電此次宣布，2029年前將不采購能為ASML貢獻高營收的High-NA EUV設備，無疑會對ASML的營收增長造成一定影響。

此外，全球光刻設備市場的格局轉變或早有預兆。4月中旬，ASML發布的最新財報顯示，中國臺灣地區在其設備凈銷售額中的占比降至23%；中國大陸市場占比從去年四季度的逾三分之一回落至19%。

而韓國市場由于其存儲廠商的大規模的設備采購需求，成為ASML現階段全球第一大營收來源地。

結語：臺積電暫緩高階光刻設備，或重塑下一代光刻商業化節奏

綜合來看，臺積電基于成本、投資回報與現有工藝迭代節奏，明確推遲High-NA EUV的導入節奏。依托成熟Low-NA EUV疊加工藝優化，臺積電或得以在2029年前維持先進制程穩步迭代。

此次供需雙方預期錯配，不僅給ASML長期增長目標增添不確定性，也意味著未來數年，全球部分尖端芯片制造或將進入無High-NA EUV加持的過渡發展階段。

不過，今年3月下旬，SK海力士已經與ASML簽訂EUV光刻設備采購協議，該協議有效期至2027年，采購規模達到11.95萬億韓元（約合人民幣553.7億元）。

在這一背景下，三星等廠商之后的設備采購動向以及其先進制程的釋放節奏，將成為后續影響High-NA EUV的商業化進程，以及全球半導體產業鏈格局走向的重要變量。