上海
第十屆國際先進光刻技術研討會
（IWAPS 2026）
-IWAPS 2026-
第十屆國際先進光刻技術研討會（IWAPS）即將開幕，誠邀您共赴學術盛宴！在這里，產業界與學術界的最前沿研發成果交匯，國際光刻技術動態深度交融！
國際先進光刻技術研討會（IWAPS），依托中國創新沃土，搭建全球交流平臺。在國內外光刻專家的鼎力支持下，在全球企業、高校、協會等的共同支持下，IWAPS持續構建覆蓋光刻設備、工藝、檢測和測量、掩模和材料、計算光刻、設計與工藝協同優化及新型光刻技術等主題的國際先進光刻交流平臺。
IWAPS持續歡迎全球領軍企業分享產業發展藍圖碰撞智慧，持續期待科研院所聚焦核心技術挑戰分享創新成果，誠摯邀請青年學者攜蓬勃朝氣參與技術思辨，亦為投資機構洞察行業機遇開啟前瞻視野。
IWAPS是一個開放的學術交流平臺，來這里聆聽世界的學術聲音，發現技術發展的瓶頸，共筑光刻技術創新未來。讓我們相約金秋，共繪藍圖！
第十屆IWAPS計劃于
2026年9月10-11日于深圳國際會展中心舉行
請于9月9日報到
歡迎各位學術和產業界的朋友蒞臨指導，積極投稿演講！
SPIE（國際光學工程學會）成立于1955年，是一個致力于光學和光電子學的國際專業組織。總部位于美國華盛頓州貝靈厄姆，SPIE的使命是推進光學和光電子技術的科學、應用、教育和商業。SPIE每年舉辦多個國際會議和展覽，為科學家、工程師和企業提供展示最新研究成果和技術的平臺。此外，SPIE Digital Library是全球最大的光學和光電子學文獻數據庫之一，提供了豐富的學術期刊、會議論文集和書籍，覆蓋光學、光電子學、激光技術、生物醫學光學等領域。這些資源和活動不僅促進了全球光學和光電子學的發展，也推動了創新技術的應用和專業人才的培養。
本屆IWAPS接收論文將被送檢SPIE Digital Library及EI。歡迎大家踴躍報名！
-征稿范圍-
IWAPS致力于發表前沿的微電子制造技術研究成果。會議主題涵蓋先進半導體制造領域中從早期的理論和實驗，到工業化大規模量產的應用等內容。包括但不局限于:
光刻工藝；
計算光刻和DTCO；
材料；
掩模；
量測及檢測；
新型光刻技術；
光刻設備裝備；
其他Patterning技術。
-投稿要求-
摘要要求
摘要必須清楚地描述論文的性質、研究主題、研究內容、組織結構、要點以及研究意義。且用英文撰寫。
摘要必須包括以下內容：論文標題、關鍵詞、作者的姓名、所屬單位、郵件地址和通訊地址。摘要的字數不應超過500個單詞。對研究內容的細節的描述將增加稿件被接收的可能。同時，我們強烈建議在提交的摘要中使用圖表。
摘要截至日期：2026年6月30日
摘要提交網址：https://spie.org/submissions/submit/overview.aspx?EventId=4101554
（使用SPIE投稿系統，若尚未注冊請首先注冊。請務必注意時間節點）
摘要錄用通知日期：2026年7月21日
全文要求
論文摘要被接收后，作者需要按照全文模板的要求提交最終論文。論文全文模板參考SPIE會議標準模板。
本屆會議論文將被送檢SPIE Digital Library及EI，請務必在截止日期前投稿全文，否則不予送檢，請嚴格參考模板格式。
論文投稿網址：https://spie.org/submissions/submit/overview.aspx?EventId=4101554
（使用SPIE投稿系統，若尚未注冊請首先注冊。請務必注意時間節點）
全文提交截止日期： 2026年8月31日
-投稿指南-
作者提交內容須知
Step 1：訪問會議投稿的提交鏈接；
Step 2：輸入所有必要信息，上傳文件并提交；
Step 3：返回您的賬戶詳情頁面，查看并批準文件以完成提交；
Step 4：之后，如果您再次返回提交系統，請點擊屏幕右上角的個人圖標，登錄您的SPIE.org賬戶；
Step 5：登錄后，點擊帶有您姓名首字母的紅色圓圈圖標，以查看下拉菜單。點擊“賬戶詳情”；
Step 6：點擊您所在研討會的鏈接，進入提交與評審系統。 藍色字體的研討會標題是一個鏈接；
Step 7：使用投稿鏈接來管理您當前提交的內容。6月30日前請提交摘要，7月21日-8月31日提交全文。
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