一臺ASML極紫外（EUV）光刻機通過某種渠道流入中國？

近日，據彭博社6月19日援引知情人士消息，美國商務部長霍華德·盧特尼克在近期與ASML高管的閉門會談中，直接質詢是否有EUV設備繞過出口管制進入中國。

消息一出，ASML火速向科技媒體Tom'sHardware發布聲明，嚴詞否認相關說法，稱其既與事實嚴重不符，也損害了公司聲譽。

這場爭議的源頭，是一場早在今年4月就已舉行的閉門會晤。當時盧特尼克與ASML首席執行官傅恪禮會面，公開議題圍繞ASML在美國的投資計劃展開，會后雙方均以正面口徑對外通報，對EUV相關爭議只字未提。

但私下里，美方拋出的質詢讓ASML進入了“危機應對”狀態。

美方所謂的“線索”，并非掌握了整機流入的實據，而是聲稱發現ASML曾出口過用于轉運EUV整機的專用配套系統及相關裝置。但出于所謂“信息敏感性”，美方始終未披露任何佐證材料，既沒有說明設備流向，也沒有給出具體交易主體。

這種“有線索、無實錘”的指控，很快被ASML逐條反駁。公司明確表態，自EUV產品誕生至今，從未向中國出口過任何一臺完整的EUV光刻機，也從未出口過專為EUV設計的組件、模塊或配套設備。

更關鍵的是，ASML掌握著每一臺EUV設備的完整溯源信息：

目前全球在役EUV共314臺，另有26臺已退役拆解，所有設備的部署地點、運維記錄、流轉狀態全程可查，中國境內的在運EUV數量為零。荷蘭外交部也同步發聲，強調半導體設備出口有明確的管制清單與許可制度，所有受管控物項均需嚴格審批。

事實上，業內多數人都對“EUV秘密流入中國”的說法持懷疑態度，核心原因在于這類設備的物理屬性與運維邏輯，決定了它幾乎不可能被“偷渡”。

一臺EUV光刻機總重超過180噸，集成零部件超10萬個，運輸需要3架波音747專機，落地后還需要原廠工程師團隊耗時近一年完成組裝調試。

更關鍵的是，EUV的穩定運行高度依賴原廠的持續運維——光學系統納米級校準、真空腔體維護、激光光源耗材更換，每一項都離不開ASML的專屬技術團隊支持。如此龐大且高依賴度的設備，想要繞過海關、避開監管秘密投入使用，基本不具備現實可能性。

早年中芯國際曾向ASML訂購過一臺EUV設備，但受美國施壓與《瓦森納協定》管制，至今未能交付，這也是中國企業距離EUV最近的一次。

除此之外，中國市場從未有過正式的EUV采購與交付記錄。ASML內部還設有嚴格的技術防火墻，能夠接觸EUV核心技術、文檔與培訓的員工，與中國區團隊完全隔離，從內部流程上堵死了技術導流的空間。

此前美國主導的出口管制，核心限制的是光刻機整機出口；而如今美方開始將監管觸角延伸至配套轉運設備、零部件等周邊環節，本質是管制邊界的進一步收緊。

從2023年收緊先進DUV出口，到2025年限制設備維保服務，再到如今追查EUV配套裝置的流向，美國對華半導體設備的管制正在從“整機禁售”向“全鏈條滲透”蔓延。

對ASML而言，這起風波也暴露了其長期的兩難處境。

一方面，作為荷蘭企業，中國是其重要的營收市場，但技術命脈又深度綁定美國供應鏈。

另一方面，面對美方的質疑，它必須第一時間自證清白，避免觸怒華盛頓引發更嚴厲的處罰；但過度迎合管制，又會損害其在中國市場的商業利益與客戶信任。

為什么中國造不出EUV光刻機？到底難在哪？

EUV光刻機被稱作“工業皇冠上的明珠”，與其說中國“造不出”，不如說量產級高端EUV的技術與供應鏈壁壘，早已超出單一國家的工業承載能力，它本質是全球頂級工業體系協同的產物。

第一道核心門檻是極紫外光源。

要產生13.5納米波長的極紫外光，需用高能激光以每秒近5萬次的頻率，精準轟擊直徑僅幾十微米的液態錫滴，瞬間將其加熱到數十萬攝氏度形成等離子體發光，整體能量轉換效率僅0.02%。

這套可支撐24小時穩定量產的光源技術，長期被美國Cymer獨家掌握。國內相關研發仍停留在實驗室階段，輸出功率、運行穩定性與使用壽命，都遠達不到晶圓廠大規模量產的標準。

第二道門檻是反射式光學系統。

極紫外光會被玻璃甚至空氣吸收，全程只能靠反射鏡傳導光路。每片反射鏡要鍍上百層鉬硅納米薄膜，表面粗糙度需控制在0.1納米以內，相當于把整個地球的地表磨平后，起伏落差不超過一根頭發絲的厚度。這項頂級精密光學加工與鍍膜技術，長期被德國蔡司壟斷，國內在量產精度與良率上仍有明顯代差。

第三道門檻是精密運動控制。

晶圓臺與掩模臺要在數倍重力加速度的高速掃描中，保持亞納米級的同步定位精度，多層電路套刻誤差不能超過2納米，是超精密機械、激光干涉測量、實時測控算法的綜合極限挑戰。

不僅如此，更難突破的是光刻機的供應鏈壁壘。

ASML自身只負責系統集成，整機超10萬個零部件，90%以上來自全球數千家頂級供應商。而中國在出口管制的約束下，相當于要獨立打通整條高端產業鏈，難度早已超出單純的技術研發范疇。