時隔14年之后推出新光刻機，日本企業開始對成熟芯片產業進行圍剿

前沿導讀

據《日經中文網》新聞指出，日本光刻機廠商佳能準備在2026年發售新一代的KrF光刻機設備，該設備的晶圓處理效率為每小時400片以上，相較于上一代設備提升了30%。這是時隔14年之后，佳能首次對制造成熟芯片的光刻機進行技術升級，并且佳能宣布隨后會繼續推出更先進的AfF干式光刻機設備，其主要目標就是搶占成熟芯片市場。

參考資料：
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設備競爭

據《中商產業研究院》所整理的數據顯示，在全球光刻機市場當中，ASML掌控著62%的總市場份額，其次是佳能占比31%，最后是尼康占比7%。

在所售光刻機當中，銷量最多的是248nm波長的KrF光刻機，其次是更古老的365nm波長i線設備。而193nm波長的先進ArF光刻機，以及13.5nm波長的EUV光刻機，加在一起也只有22.7%的總數量占比。

參考資料：
2025年中國光刻機產業鏈圖譜及投資布局分析（附產業鏈全景圖）-中商情報網

從整體的市場銷售來看，ASML掌握著絕對話語權，在先進設備領域幾乎沒有對手。雖然EUV光刻機的銷量只有總產業銷量的7.2%，但是其創造的利潤價值是無法估量的數值。

佳能憑借著納米壓印技術在存儲芯片領域占據一定市場，也因為佳能選擇押注納米壓印技術，所以佳能到目前為止并沒有ArF光刻機，只有一些技術成熟的KrF和i線設備。

尼康則是與佳能相反，并沒有跟佳能一樣走納米壓印路線，反而是跟隨ASML采用ArF浸潤式技術。不過由于尼康總部的決策速度太慢，導致ASML已經在ArF領域取得了絕對統治權，尼康現在的光刻機銷量絕大部分都是本土企業或者海外的合資工廠所采購，市場空間極其有限。

據《佳能中國》資料顯示，佳能曾在2021年的上海半導體展會上面發布了多款光刻機產品。其中包括了i線光刻機和KrF光刻機，可以制造功率器件、通信器件等多種半導體產品。同時還發布了應用于封裝環節的i線步進光刻機、制造顯示面板的光刻機，以及佳能安內華公司提供的配套零部件。

參考資料：
佳能亮相半導體產業盛會FPD/SEMICON China 2021

彼時的中國芯片產業已經被美國封鎖了EUV光刻機和相關的制造設備，中國本土的光刻技術無法滿足于國內企業的需要，產業出現了技術斷層。佳能在這個時期向中國市場上投放大量制造設備，一方面可以有效解決中國芯片產業缺少設備的困境，另一方面也可以借此機會通過中國市場來賺取利潤，吃掉一部分本該屬于ASML的市場空間。

成熟芯片

2024年9月，中國工信部正式對外公布了中國新一代光刻機設備的技術指標?？偣灿袃煞N新設備，一種是248nm波長的KrF氟化氪光刻機，一種是193nm波長的干式ArF氟化氬光刻機，其干式ArF光刻機的硬件水平相當于ASML在2015年推出XT：1460K。

這兩款產品的發布，標志著中國光刻機產業迎來了新一輪的技術更新。雖然整體的技術指標對比ASML的產品差距很大，但是對于銷售成熟節點光刻機的尼康和佳能來說，有著直接沖擊。

根據佳能工業部門的資料顯示，除納米壓印光刻機之外，在傳統光刻機領域，佳能最先進的i線光刻機為FPA-5550iZ2，分辨率350nm，套刻精度25nm。最先進的KrF光刻機為FPA-6300ES6a，分辨率為90nm，套刻精度為5nm。

雖然佳能KrF設備的套刻精度比中國光刻機更高，但是其設備的分辨率要比中國光刻機低很多。從技術與商業的兩個維度看，佳能的i線設備與KrF設備，均已經在技術指標上被中國公布的國產光刻機趕超。

ASML統治著先進光刻機市場，尼康憑借著略差一些的ArF光刻機也可以維持市場，現在只剩下佳能徘徊在產業邊緣。

佳能所持有的納米壓印設備由于其技術特殊性，目前只被用于制造存儲芯片和特色工藝芯片，無法應用到邏輯芯片上，而佳能出貨量最多的i線和KrF設備，又被中國制造的光刻機所趕超。

如果佳能拿不出水平更高的傳統設備去搶占市場，那么等中國光刻機在國際市場上全線鋪開，佳能所面臨的抉擇只有兩個，要么將傳統設備市場讓給其他企業，要么拿出更高水平的設備打敗對方。