廣東
沉寂多年的日本光刻機巨頭尼康（Nikon）正試圖打破荷蘭ASML在半導體光刻設備市場長達近三十年的統治。
據《日經亞洲》近日報道，尼康新任總裁兼首席執行官大村康宏（Yasuhiro Ohmura）近日表示，公司計劃以低于市場領導者的價格銷售其氟化氬（ArF）光刻設備，以此贏回流失的客戶。
價格戰瞄準ASML非絕對壟斷領域
大村康宏于今年4月履新，他在接受《日經亞洲》采訪時透露，尼康正與多家美國及亞洲大型芯片制造商就ArF光刻機的新訂單進行談判，相關磋商已“接近簽訂采購合同階段”。
值得注意的是，尼康此次以價換量的策略，瞄準的是ASML并未形成絕對壟斷的細分領域。在用于最先進芯片制造的極紫外（EUV）光刻機市場，ASML擁有無可撼動的壟斷地位。然而，在技術更為成熟的深紫外（DUV）ArF浸沒式光刻領域，即便是3納米芯片的大部分光刻制程仍依賴這類設備。
ASML的高端ArF浸沒式光刻機單臺均價約8250萬美元，這為價格更低的競爭者留出了市場空間。大村康宏表示：“我們大量零部件實現自研自產，這讓我們在成本競爭中具備優勢。”
困境中的反擊：連續虧損與市場份額流失
尼康此番主動出擊的背景，是其光刻設備業務已陷入嚴重困境。
根據尼康財報顯示，在截至2026年3月31日的尼康2026財年財報顯示，其營收同比下滑5.3%至6,771.63億日元，營業利潤為虧損1,124.48億日元，同比由盈轉虧，歸母凈利潤虧損860.88億日元，同比也是由盈轉虧，創下公司史上最差業績。
這主要是受光刻設備訂單低迷及金屬3D打印業務表現不佳拖累。財報顯示，2026財年包含光刻機業務的精密設備部門營收約1,672億日元同比大跌18.9% 。
從光刻機出貨量來看，2026財年上半年半導體光刻設備合計出貨量僅9臺（其中還有1臺是翻新機），較上年同期的10臺減少1臺。與此同時，ASML目前把持著全球超過80%的光刻設備市場，在ArF浸沒式光刻領域，ASML的市場份額更是超過90%。
尼康的業績同樣不容樂觀。受光刻設備訂單低迷及金屬3D打印業務表現不佳拖累，尼康在截至今年3月的財年歸屬于母公司所有者的凈虧損達860億日元（約合5.4億美元），創下公司史上最差業績。
尼康傳統上高度依賴英特爾這一大客戶——后者曾貢獻尼康ArF設備訂單的80%。但隨著英特爾自身陷入制造業務困境并削減開支，這一依賴關系反而成為尼康的致命弱點。大村康宏承認，尼康尚未在其他客戶中取得足夠的業績記錄，“其支持能力還沒有贏得信任”。
開始兼容ASML生態
為扭轉局面，今年2月，尼康宣布將于2028財年推出全新一代ArF浸沒式光刻設備平臺，該設備將搭載全新鏡頭與晶圓載臺，并且關鍵的一點是——可兼容ASML已投入使用的設備。
這一兼容性策略旨在降低客戶從ASML平臺遷移至尼康平臺的轉換成本與風險。尼康的目標是將ArF浸沒式光刻市場份額從目前的個位數提升至兩位數。此外，尼康還計劃在2026財年內出貨首臺新一代干式ArF光刻機“NSR-S333F”。
大村康宏認為，隨著AI熱潮帶動半導體設備需求激增，市場供應日趨緊張，芯片制造商為控制采購成本，也傾向于培育兩家供應商而非單一依賴。
從市場格局來看，目前全球僅尼康與ASML兩家企業能夠量產ArF光刻設備。2025年，ASML共計出貨48臺EUV光刻機和131臺浸沒式DUV光刻機，年末手持訂單積壓額達388億歐元。在這種供不應求的背景下，尼康以價格優勢重新切入市場，確實具備一定的商業邏輯。
面對當前的困境，大村康宏還表示將對尼康進行戰略收縮，聚焦于相機與半導體光刻設備兩大核心業務板塊，以此扭轉虧損局面。
分析人士指出，尼康選擇在非最前沿的DUV市場與ASML展開價格戰，是一條務實路徑。重返EUV領域不僅需要巨額研發投入，且至少面臨10年以上的技術代差。相比之下，ArF浸沒式光刻設備雖然技術成熟，但由于AI芯片制造的規模擴張，其需求仍在持續攀升。
小結：
盡管尼康的雄心明確，但僅靠價格能否真正贏回客戶仍有待觀察。憑借長期研發合作及獨家供應尖端設備的優勢，ASML在技術上已遙遙領先。尼康需要證明的不僅是更低的價格，更是可靠的產品性能與完善的技術支持能力。
此外，尼康規劃的2028財年的新平臺距離量產尚有兩年多時間，在此期間ASML可能進一步鞏固其優勢。對于一家正處于財務困境中的企業而言，這場價格戰既是機遇，也是一場豪賭。
編輯：芯智訊-林子
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