快科技6月8日消息,璞璘科技近日向深圳力策科技正式交付型號為PL-AS的半導體級真空氣壓式納米壓印光刻機。該設備是國內首款光芯片專用納米壓印光刻設備,實現了國產光刻領域新突破。
此次交付的設備型號為PL-AS真空氣壓式納米壓印光刻機,全程繞開深紫外光刻路線,實現8英寸光芯片晶圓規模化量產。
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該半導體級設備線寬分辨率小于10nm,晶圓整面壓印壓力均勻性誤差低于 0.5%,同時支持無殘余層壓印工藝。
設備采用面接觸氣壓工作模式,晶圓各區域受力均勻,可將殘余層厚度偏差控制在2nm以內,適配光芯片生產要求。
對比輥壓工藝,該方案規避線接觸帶來的形變問題;相較步進式設備,全域壓印模式大幅提升量產效率。
它可實現跨尺度微納結構一次成型,省去多道復雜光刻工序,在簡化流程的同時保障產品生產良率。
本次合作聚焦激光雷達芯片量產,助力力策科技旗下光學相控陣芯片,面向車載、智能終端市場規模化落地。
技術層面,通過8英寸規模化量產驗證,證實了國產納米壓印可在光芯片制造中穩定替代DUV工藝。
整套方案搭配定制雙層壓印膠材料體系,芯片制造成本壓縮至傳統DUV方案的十分之一。
目前這套納米壓印方案,已在光通訊化合物芯片、硅光環形導光結構芯片領域完成量產驗證。
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